光学与光电技术

表面金属银涂层的制备与性能 

来源:光学与光电技术 【在线投稿】 栏目:期刊导读 时间:2021-04-07
以聚对苯二甲酸乙二酯(PET)为基体,基于化学刻蚀和敏化处理的表面改性,采用双组分喷涂法在改性基体表面制备了高性能的银涂层。改变喷涂过程中银氨溶液和还原溶液的浓度以及喷涂次数,研究它们对银涂层的微观形貌、宏观形貌、沉积量和光学常数的影响,考察了最佳喷涂条件下所得银涂层的成分和性能。结果表明:化学刻蚀后表面产生大量凹坑,敏化处理后基体表面的水接触角降低至20.3°;当银氨溶液的AgNO3浓度为0.1 mol/L,还原溶液中乙二醛和三乙醇胺的体积分数分别为50 m L/L和10 m L/L时,喷涂30次所得银涂层颗粒呈细圆状,且均匀致密地排列在一起。该银涂层的厚度在350 nm左右,电阻率约为7.07μ?·cm(仅是块体银的4.5倍),表面粗糙度为17.8 nm,在可见光区和红外光谱区的平均反射率分别高达93.31%和99.45%。化学改性和敏化处理可以极大改善基体表面特性,为后续喷涂金属离子的吸附和还原提供条件,采用双组分喷涂法制备的银涂层具有优异的导电性能和光学性能。

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